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  • 刻蝕系統(tǒng)

    簡要描述：刻蝕系統(tǒng)三到六個(gè)端口傳送腔室可用于集成ICP等離子刻蝕機(jī)、RIE刻蝕機(jī)、原子層沉積系統(tǒng)、PECVD和ICPECVD沉積設(shè)備，以滿足研發(fā)的要求。樣品可以...

    型號： 所在地：參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2025/1/1 5:04:05 對比
  • 集成等離子刻蝕和沉積的多腔系統(tǒng)

    簡要描述：集成等離子刻蝕和沉積的多腔系統(tǒng)三到六個(gè)端口傳送腔室可用于集成ICP等離子刻蝕機(jī)、RIE刻蝕機(jī)、原子層沉積系統(tǒng)、PECVD和ICPECVD沉積設(shè)備，以滿...

    型號： 所在地：參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2025/1/1 5:02:04 對比
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